每經(jīng)訊，據(jù)啟信寶，新三板創(chuàng)新層公司宇迪光學(xué)（831934）新增專利信息，專利權(quán)人為宇迪光學(xué)，發(fā)明人是吳迪富、郭江、冒建軍、任霞、柴珊珊。專利授權(quán)日為2023年10月31日，專利名稱為“一種平面透鏡研磨裝置”，專利類型為中國實(shí)用新型專利，專利申請?zhí)枮镃N202321178440.7。

該專利摘要顯示：本實(shí)用新型涉及光學(xué)器件技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種平面透鏡研磨裝置，包括底座、研磨器、套桿，卡塊和放置臺，固定架，所述固定架固定連接在底座的外壁上端后側(cè)中間，研磨器，所述研磨器活動連接在固定架的外壁前端，套桿，所述套桿活動連接在底座的內(nèi)部中間，卡塊，所述卡塊活動放置在套桿的內(nèi)部上端，放置臺，所述放置臺固定連接在卡塊的外壁上端，本實(shí)用新型，通過轉(zhuǎn)動卡塊使得卡塊固定穩(wěn)定在套桿的內(nèi)部中間，且同時穩(wěn)定放置臺在卡塊的上端，方便快捷的即可進(jìn)行安裝或拆卸，之后通過夾板之間的夾持，使得不同的平面透鏡可穩(wěn)定的被研磨器進(jìn)行任意角度的調(diào)整研磨，且結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，不易造成傾倒，同時可通過導(dǎo)槽使得套桿可隨時移動出研磨器的研磨范圍。

(記者 曾健輝)

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